UV循環(huán)

一級(jí)的光化學(xué)反應(yīng)對(duì)溫度變化并不敏感。然而，隨之而來(lái)的二級(jí)反應(yīng)的速度則和溫度變化緊密相關(guān)。一般來(lái)說(shuō)，隨著溫度升高，反應(yīng)速度會(huì)加快。因此，在UV曝曬試驗(yàn)過(guò)程中，溫度控制就顯得重要，更重要的是要將加速試驗(yàn)所采用的試驗(yàn)溫度與材料在實(shí)際應(yīng)用中遭遇的zui高溫度相匹配。在設(shè)備中UV的溫度設(shè)置可以是從50度到70度中的任何一點(diǎn)，具體取決于光照度水平和室內(nèi)環(huán)境氣溫。設(shè)備的溫度調(diào)節(jié)是通過(guò)具有微電腦演算功能的控制器來(lái)指揮設(shè)備內(nèi)諸如空氣加熱器、水加熱器、等一系列系統(tǒng)來(lái)完成。

濕氣循環(huán)

隨著溫度的提高，潮濕對(duì)材料的破壞力會(huì)急劇增加。因此在潮濕曝曬過(guò)程中，溫度控制是zui基本的要求。更進(jìn)一步說(shuō)，要產(chǎn)生加*果，就要求在潮濕過(guò)程中保持高溫環(huán)境。在設(shè)備中冷凝過(guò)程溫度設(shè)置可以是從40度到70度中的任何一點(diǎn)。